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PVD技术四个工艺步骤

发布日期:2018-01-18 作者:青岛达跃钛金不锈钢智能科技有限公司 点击:

真空离子镀膜屏风.jpg

      (1)清洗工件:接通直流电源,氩气进行辉光放电为氩离子,氩离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出;

      (2)镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。

      (3)镀料离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后,高速冲向工件;

      (4)镀料原子、分子或离子在基体上沉积:工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

      离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能,高速轰击工件时,不但沉积速度快,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特别牢。

      多年以来,青岛达跃钛金不锈钢智能科技有限公司所生产的真空离子镀膜应用设备和工艺交钥匙工程,为国内知名镀膜生产企业的发展提供了有力的技术支持,得到了广大客户的高度信誉。

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