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真空离子镀的基本介绍

发布日期:2020-01-22 作者: 点击:

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      离子镀包括溅射和离子镀。离子溅射镀膜是一种基于离子溅射效应的镀膜方法,真空离子镀膜适用于合金膜和复合膜的镀膜。离子镀膜是在真空蒸发和溅射镀膜的基础上发展起来的一种新的镀膜技术,它将各种气体放电方法引入气体沉积领域,从整体上气体沉积过程是在等离子体中进行的。离子镀大大提高了薄膜粒子的能量,可以获得性能更优异的薄膜,拓展了薄膜的应用领域。它是一项发展迅速、深受人们喜爱的新技术。

从广义上讲,离子镀膜的特点是:镀膜时工件(基体)产生负偏压,工件总是受到高能离子的轰击。该复合膜具有结合力好、涂层包裹性好、结构参数可控、粒子总能量高、易反应沉积等优点,可在较低的温度下制备。


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