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真空镀膜技术概述

发布日期:2020-05-11 作者: 点击:

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a薄膜是在基底表面制备的一层或多层材料。它的厚度从几纳米到几十微米不等。因此,与水平方向相比,薄膜在厚度方向之上的尺度很小,尤其是纳米厚度的薄膜,可以认为是二维材料。与三维块体材料相比,薄膜材料具有特殊的性能,特别是具有特殊的光学、电学、磁学等效应;而且由于大多数材料在应用之中起到了一定的作用,所以大部分都是靠近表面的部分,或者说它们的表面起到了特殊的作用,因此可以制备出满足薄膜要求的块体材料表面,并对材料表面进行加工,赋予材料表面特殊的性能或对材料表面的保护可以大大提高材料的性能。同时,用薄膜代替块体材料可以节约能源,避免制备块体材料的技术难题。因此,真空离子镀膜技术在新材料研究领域具有广泛的应用价值。

薄膜的制备方法可分为气体发生法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、镀膜法、液相生长法等,其中气相沉积法可分为物理气相沉积法(PVD)和化学气相沉积法(CVD)。因为它们基本上是在真空环境之中进行的,所以被称为真空电镀技术。


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