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离子镀技术有哪些类型?

发布日期:2020-08-27 作者: 点击:

真空离子镀膜.jpg

离子镀是一种在基体之上沉积目标材料的涂层方法。这种镀膜工艺的原理是用电弧电离和汽化靶材,然后高速沉积在基体之上。离子镀通常在真空室或惰性气体装置之中进行。离子镀技术也称为物理气相沉积(PVD)。随着科学技术的飞速发展,出现了许多不同类型的离子镀技术。它们在蒸汽源、充注气体、真空环境、电离和离子加速方式等方面都有所不同。它们的特点和应用也不同:感应加热离子镀膜,采用高频感应加热,充惰性气体或反应气体,真空压力1010pa,在感应漏磁条件之下,离子加速方式为直流1kV5kV。可用于装饰、机械产品和电子设备。

电弧放电型高真空离子镀膜是利用电子束、真空或充满活性气体加热,真空离子镀膜利用蒸发源的热电子或热灯丝电离,以促进电离(0-700v加速电压)。其特点是电离率高,漆膜质量好,常用于机械产品、刀具、装饰等的涂装。

在多弧离子镀过程之中,阴极的强亮点作为蒸发源、真空或充满活性气体。在真空压力为1010pa的条件之下,蒸发原子束的定向运动产生了电离发射离子。它具有高电离率和高沉积速率的特点,常用于刀具、机械产品和模具的涂装。


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